真空腔室Ф246×260mm,304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源(兼容金属与**蒸发)3组,可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台,供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm,具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
手套箱一体机是一种用于科学实验和工业应用的设备,主要用于在严格的气氛下进行操作。手套箱提供了一个封闭的工作空间,内部可以控制气体成分(如氮气、氩气或真空环境),以防止空气中的水分和氧气对敏感材料或化学反应的影响。
手套箱一体机通常集成了多个功能性模块,如:
1. **气体净化系统**:使用干燥剂和过滤系统来去除空气中的水分和杂质。
2. **温控系统**:维持箱内温度,以满足特定实验的需求。
3. **真空泵**:用于抽取箱内空气,创建真空环境。
4. **气体注入系统**:可以在箱内补充惰性气体,确保气氛的稳定。
5. **操作手套**:提供安全的操作空间,使用户可以在箱内进行实验。
手套箱一体机广泛应用于材料科学、化学合成、电子制造、制药等领域,尤其是在处理易氧化或潮湿敏感材料时,能够提供必要的保护和控制环境。
束源炉是一种特殊类型的核反应堆,主要用于研究和医学应用。它的特点包括:
1. **中子源**:束源炉能够产生大量的中子,这些中子可用于材料研究、核检测、医学成像及等领域。
2. **小型化**:与传统的核反应堆相比,束源炉通常较小,设计上更为紧凑,适合于实验室或等场所。
3. **低功率运行**:束源炉的运行功率相对较低,一般在几千瓦到几兆瓦之间,适合用于中子辐照实验。
4. **安全性**:由于功率较低,束源炉的设计通常具有更高的安全性,反应堆的重要系统和结构更易于控制。
5. **多用途**:除了用于基础科学研究外,束源炉还可用于材料分析、核医学以及教育等多个领域,显示出其多功能性。
6. **易于安装与维护**:束源炉一般设计得更加便捷,方便安装和日常维护。
7. **放射性废物处理**:由于其低功率的特性,所产生的放射性废物相对较少,处理相对简单。
这些特点使得束源炉在研究和应用中发挥了重要的作用。

电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学和材料科学等领域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:电阻蒸镀机能够将材料(如金属、合金、氧化物等)以蒸发形式沉积在基材表面,形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**:设备通常配备的温度控制和蒸发速率监测系统,可以控制薄膜的厚度和均匀性。
3. **多种材料兼容**:电阻蒸镀机可以用于多种类型的材料沉积,包括金属(如铝、金、银)、合金以及一些特定的化合物。
4. **真空环境**:通过在真空环境中进行沉积,可以减少气体分子对薄膜沉积的影响,从而提高薄膜的品质和性能。
5. **可调参数**:用户可以根据实际需求调整沉积温度、速率、时间等参数,以实现不同的应用效果。
6. **应用广泛**:电阻蒸镀机常用于制造光学元件、半导体器件、传感器、太阳能电池等多种产品。
7. **自动化程度高**:现代电阻蒸镀机通常具备计算机控制系统,可以实现自动化操作,提高生产效率。
总之,电阻蒸镀机是一种重要的薄膜制备工具,其优越的性能使其在科学研究和工业生产中都得到了广泛应用。

蒸发舟(或称为蒸发小舟)在化学和材料科学中主要用于薄膜的制备和物质的蒸发沉积。它的基本功能包括:
1. **材料蒸发**:蒸发舟可以将固态材料加热到其蒸发温度,使其转变为气态,通过真空或惰性气体环境将蒸发出的颗粒沉积在基材上。
2. **薄膜沉积**:通过控制蒸发过程可以在基材上形成均匀、薄的薄膜,这对于制作电子器件、光学涂层等重要。
3. **材料选择性**:蒸发舟可以用于多种材料(如金属、氧化物、聚合物等)的蒸发,适应不同的应用需求。
4. **控制**:通过调整加热功率和蒸发时间,可以控制沉积的厚度和质量。
5. **提高纯度**:在真空环境中蒸发,可以减少杂质及氧化反应,得到较高纯度的沉积材料。
6. **应用广泛**:蒸发舟被广泛应用于半导体制造、光学器件、太阳能电池、传感器等领域。
通过这些功能,蒸发舟在材料的制备和研究中起到了关键的作用。

钙钛矿镀膜机是一种用于制备钙钛矿材料的设备,广泛应用于光电材料的研究和产业化。以下是钙钛矿镀膜机的一些主要特点:
1. **高精度控制**:钙钛矿镀膜机通常配备高精度的温度、气体流量和压力控制系统,能够实现对膜厚度和质量的控制。
2. **多种成膜技术**:设备可能支持多种成膜技术,如溶液法、真空蒸发、磁控溅射、化学气相沉积(CVD)等,以满足不同材料和应用的需求。
3. **均匀性好**:钙钛矿镀膜机通过优化基板旋转、气体流动等参数,能够实现高均匀性的薄膜沉积,提高材料性能。
4. **适应性强**:可适用于不同类型的基材,包括玻璃、硅片、塑料等,提供更大的设计灵活性。
5. **快速换膜**:许多钙钛矿镀膜机设计有快速换膜功能,方便进行不同材料的快速切换,提高生产效率。
6. **环境友好**:新型钙钛矿镀膜机在材料使用和废气处理方面越来越注重环保,减少对环境的影响。
7. **便于规模化生产**:具备一定自动化程度的设备可以支持大规模生产,满足工业化需求。
8. **实时监控与数据记录**:设备通常配备实时监控系统,可以记录沉积过程中的各项数据,便于后续分析和优化。
这些特点使得钙钛矿镀膜机在光伏、发光二极管(LED)、激光器等领域具有广泛的应用前景。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种广泛应用于材料科学、电子、光电和薄膜技术等领域的设备。其主要适用范围包括:
1. **光学镀膜**:用于制作抗反射涂层、增透膜、反射镜等光学元件。
2. **电子器件**:可用于制备半导体器件中的金属层、绝缘层和其他功能膜,比如太阳能电池、发光二极管(LED)等。
3. **硬涂层**:在工具、模具等表面镀膜,以提高其耐磨性、抗腐蚀性和整体性能。
4. **传感器**:在气体传感器、湿度传感器等的开发中,利用镀膜技术提高传感器的灵敏度和选择性。
5. **薄膜材料研究**:用于基础研究,探索材料的薄膜生长行为及其物理性质。
6. **实验室应用**:适合小批量生产和实验室研究,可以在实验室环境中进行多种不同材料的蒸发镀膜。
7. **装饰镀膜**:用于生产装饰性薄膜,如金属光泽涂层等。
桌面型热蒸发镀膜仪以其操作简便、成本相对较低,适合科研、教学和小规模生产等多种场合。
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