真空腔室Ф246×260mm，304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源（兼容金属与**蒸发）3组，可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台，供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm，具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备，广泛应用于半导体、光电、光学薄膜等领域。其工作原理是通过将金属或其他材料加热至蒸发点，形成气相，然后在基材表面凝结形成薄膜。
电阻蒸镀机的主要组成部分包括：
1. **电阻加热元件**：通常采用镍铬合金或钨等材料，能在通电时产生高温，将待蒸镀的材料加热至蒸发。
2. **真空系统**：通过抽真空来降低气压，减少气体分子之间的碰撞，确保蒸发的材料能够有效沉积在基材表面。
3. **冷却系统**：用于冷却基材或其他组件，防止过热和确保沉积质量。
4. **控制系统**：用于监测和控制蒸镀过程中的参数，如温度、蒸发速率、沉积时间等。
电阻蒸镀的优点包括沉积速度快、膜层均匀、附着力好等，但也存在一些限制，如材料的选择限制、设备成本较高等。
在实际应用中，电阻蒸镀技术可以实现多种功能薄膜的制备，比如反射镜、抗反射涂层、导电膜等。
热蒸发镀膜机是一种用于物相沉积（PVD）技术的设备，主要功能包括：
1. **膜层制备**：通过加热蒸发材料，使其转变为气态，并在基材表面沉积形成薄膜。可以用于制备金属、绝缘材料或半导体薄膜。
2. **膜层厚度控制**：通过控制蒸发率和沉积时间，可以调节膜层的厚度。
3. **材料种类选择**：可以使用多种材料进行蒸发，如金、银、铝、氧化物等，以实现不同的光学或电气性能。
4. **真空环境控制**：在真空环境中进行镀膜，降低空气中的杂质对膜层质量的影响，提高膜层的致密性和均匀性。
5. **基材适应性**：可用于多种基材的镀膜，包括玻璃、塑料、金属等。
6. **功能性薄膜的制备**：可以制备不同功能的薄膜，如反射膜、抗反射膜、导电膜、光电膜等，广泛应用于光电子器件、显示器、传感器等领域。
7. **多层膜制备**：可实现多层膜的叠加，制造复杂结构以满足特定的光学或电气特性。
这些功能使得热蒸发镀膜机在材料科学、电子、光学等领域有着广泛的应用。
钙钛矿镀膜机是一种专门用于制造钙钛矿材料的设备，通常涉及薄膜沉积技术。这种机器的主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：通过化学气相沉积（CVD）、物相沉积（PVD）或溶胶-凝胶法等技术，将钙钛矿材料沉积在基材上，形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**：能够控制沉积过程中的温度、压力和气体流量，以确保薄膜的厚度和均匀性符合要求。
3. **材料多样性**：支持多种钙钛矿材料的沉积，包括不同的组成和结构，以适应不同应用需求。
4. **表面处理**：可以对镀膜后处理表面进行刻蚀或清洗，以改善薄膜的性能和附着力。
5. **实时监测**：配备传感器和监测系统，可以实时监测沉积状态和薄膜质量，确保生产过程的稳定性和可重复性。
6. **自动化操作**：许多钙钛矿镀膜机具有自动化功能，能够减少人工干预，提高生产效率和减少人为错误。
钙钛矿材料被广泛应用于太阳能电池、光电器件、催化剂等领域，因此，钙钛矿镀膜机在新材料研发和产业化方面具有重要意义。
手套箱一体机是一种结合了手套箱和其他实验设备的综合性实验装置，主要用于处理在惰性气氛（如氮气、氦气等）下进行的实验或操作。其功能通常包括：
1. **惰性气体保护**：手套箱内可以充入惰性气体，避免实验材料与空气中的水分和氧气反应，保护样品的纯净性。
2. **手套操作**：设备通常配有手套，可以在不暴露于外部环境的情况下进行实验操作，如取样、装置组装等。
3. **样品存储**：手套箱内部可以用于存放敏感材料和试剂，确保其不受外界污染。
4. **气体监控**：一些手套箱一体机配备气体监控系统，可以实时监测箱内环境，确保气体浓度和成分的稳定。
5. **温度和湿度控制**：可以调节和控制箱内的温度和湿度，为实验提供理想环境。
6. **接口扩展**：某些手套箱一体机设计有多种接口，可以与其他实验设备联动，如真空泵、反应釜等。
7. **数据记录与控制**：部分设备能够连接计算机或其他控制系统，实现数据记录和实验过程的自动化监控。
手套箱一体机广泛应用于材料科学、化学反应、制药、生物实验等领域，尤其在对氧敏感或湿敏性的材料处理上具有重要意义。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种常用的薄膜沉积设备，具有以下几个显著特点：
1. **紧凑设计**：桌面型热蒸发镀膜仪通常体积较小，适合在实验室或小型生产环境中使用，便于放置和操作。
2. **蒸发**：利用热源加热蒸发材料，使其蒸发并沉积在基底上，能够实现的薄膜沉积。
3. **材料多样性**：可以使用多种类型的蒸发材料，如金属、氧化物等，适应不同的应用需求。
4. **真空系统**：一般配备有真空泵，能够在相对较低的压力下工作，提高膜层的纯度和均匀性。
5. **易于控制**：搭载有控制系统，能调节蒸发速率和沉积厚度，方便用户根据实验要求进行参数设置。
6. **适应性强**：可用于不同尺寸和形状的基底，如平片、胶卷等，满足不同实验或生产需求。
7. **品质监测**：一些型号可能配备有膜厚监测系统，实时监控沉积过程，确保膜厚的一致性。
8. **维护简单**：相对而言，桌面型热蒸发镀膜仪的维护和操作相对简单，适合研究人员和技术人员使用。
总之，桌面型热蒸发镀膜仪以其灵活性、便捷性和性，在材料科学、光电器件制造及其他相关领域得到了广泛应用。
电阻蒸镀机是一种用于材料蒸发沉积的设备，广泛应用于领域。其适用范围包括但不限于以下几个方面：
1. **半导体行业**：用于制造集成电路、传感器等器件的金属电极和薄膜。
2. **光电设备**：在太阳能电池、显示器（如LCD和OLED）及光伏组件的制造中，用于沉积导电薄膜和反射膜。
3. **光学涂层**：用于光学器件如镜头、滤光片等的反射或抗反射 coating。
4. **包装材料**：在某些特殊包装材料中，电阻蒸镀可用于增强气密性或加涂保护层。
5. **饰品与工艺品**：在珠宝、手表等消费品的表面处理上，提供金属镀层以增加美观及耐腐蚀性。
6. **管道与设备**：在某些工业应用中，用于管道或设备表面的金属涂层。
总的来说，电阻蒸镀机因其高精度、高均匀性和良好的附着力，广泛应用于需要精细金属沉积的各个行业。
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