真空腔室Ф246×260mm，304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源（兼容金属与**蒸发）3组，可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台，供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm，具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备，广泛应用于半导体、光电、光学薄膜等领域。其工作原理是通过将金属或其他材料加热至蒸发点，形成气相，然后在基材表面凝结形成薄膜。
电阻蒸镀机的主要组成部分包括：
1. **电阻加热元件**：通常采用镍铬合金或钨等材料，能在通电时产生高温，将待蒸镀的材料加热至蒸发。
2. **真空系统**：通过抽真空来降低气压，减少气体分子之间的碰撞，确保蒸发的材料能够有效沉积在基材表面。
3. **冷却系统**：用于冷却基材或其他组件，防止过热和确保沉积质量。
4. **控制系统**：用于监测和控制蒸镀过程中的参数，如温度、蒸发速率、沉积时间等。
电阻蒸镀的优点包括沉积速度快、膜层均匀、附着力好等，但也存在一些限制，如材料的选择限制、设备成本较高等。
在实际应用中，电阻蒸镀技术可以实现多种功能薄膜的制备，比如反射镜、抗反射涂层、导电膜等。
**蒸发镀膜机是一种用于薄膜材料的沉积设备，主要应用于电子、光电、光学等领域。其功能主要包括：
1. **薄膜沉积**：通过加热**材料，使其蒸发并沉积在基板表面，形成均匀的薄膜。
2. **控制膜厚**：可以控制沉积的膜厚度，以满足应用需求。
3. **大面积涂层**：适用于大尺寸基板的涂层工艺，满足工业生产需求。
4. **高真空环境**：在高真空条件下进行镀膜，减少杂质，提升膜层质量。
5. **材料适应性**：可用于多种**材料的镀膜，如聚合物、染料、液晶等。
6. **多层膜结构**：能够实现多层膜的沉积，适用于复杂结构的器件。
7. **智能控制**：现代设备通常配备的控制系统，可以自动调节参数，提升生产效率和膜的均匀性。
通过以上功能，**蒸发镀膜机在太阳能电池、显示器、传感器等领域发挥着重要作用。
热蒸发镀膜机是一种常用于薄膜沉积的设备，其主要特点包括：
1. **高纯度镀膜**：由于采用高温加热源，能有效蒸发材料，沉积出的薄膜通常具有较高的纯度。
2. **良好的均匀性**：通过合理设计源与基片之间的距离，可以实现较均匀的膜层厚度。
3. **适用范围广**：可以用于多种材料的沉积，包括金属、半导体及一些绝缘材料。
4. **沉积速率可调**：通过调节加热温度和蒸发源的功率，可以实现不同沉积速率，满足不同应用需求。
5. **操作简便**：热蒸发镀膜机的操作相对简单，适合实验室及工业生产使用。
6. **适配性强**：可以与其他设备如真空系统、光学测厚仪等配合，提升沉积效果和膜层质量。
7. **成本效益高**：相较于其他镀膜技术，热蒸发镀膜机的设备投资和运行成本通常较低。
8. **膜层控制能力强**：可以通过调整蒸发时间和材料供应来实现膜厚的控制。
总的来说，热蒸发镀膜机以其优良的膜层质量和较为简单的操作，在科研和工业应用中广泛使用。
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备，广泛应用于电子、光学和材料科学等领域。其主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：电阻蒸镀机能够将材料（如金属、合金、氧化物等）以蒸发形式沉积在基材表面，形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**：设备通常配备的温度控制和蒸发速率监测系统，可以控制薄膜的厚度和均匀性。
3. **多种材料兼容**：电阻蒸镀机可以用于多种类型的材料沉积，包括金属（如铝、金、银）、合金以及一些特定的化合物。
4. **真空环境**：通过在真空环境中进行沉积，可以减少气体分子对薄膜沉积的影响，从而提高薄膜的品质和性能。
5. **可调参数**：用户可以根据实际需求调整沉积温度、速率、时间等参数，以实现不同的应用效果。
6. **应用广泛**：电阻蒸镀机常用于制造光学元件、半导体器件、传感器、太阳能电池等多种产品。
7. **自动化程度高**：现代电阻蒸镀机通常具备计算机控制系统，可以实现自动化操作，提高生产效率。
总之，电阻蒸镀机是一种重要的薄膜制备工具，其优越的性能使其在科学研究和工业生产中都得到了广泛应用。
蒸发舟（或称为蒸发小舟）在化学和材料科学中主要用于薄膜的制备和物质的蒸发沉积。它的基本功能包括：
1. **材料蒸发**：蒸发舟可以将固态材料加热到其蒸发温度，使其转变为气态，通过真空或惰性气体环境将蒸发出的颗粒沉积在基材上。
2. **薄膜沉积**：通过控制蒸发过程可以在基材上形成均匀、薄的薄膜，这对于制作电子器件、光学涂层等重要。
3. **材料选择性**：蒸发舟可以用于多种材料（如金属、氧化物、聚合物等）的蒸发，适应不同的应用需求。
4. **控制**：通过调整加热功率和蒸发时间，可以控制沉积的厚度和质量。
5. **提高纯度**：在真空环境中蒸发，可以减少杂质及氧化反应，得到较高纯度的沉积材料。
6. **应用广泛**：蒸发舟被广泛应用于半导体制造、光学器件、太阳能电池、传感器等领域。
通过这些功能，蒸发舟在材料的制备和研究中起到了关键的作用。
束源炉（也称为束流炉或束流反应堆）是一种利用加速器产生的粒子束进行核反应的设备。它主要用于以下几个领域：
1. **基础科学研究**：束源炉可用于粒子物理学和核物理学的基础研究，探索粒子的基本性质和相互作用。
2. **材料科学**：束源炉可以用于开发和测试新材料，尤其是在较端条件下（如高温、高压）下的材料性能。
3. **应用**：束源炉在医学成像、（如质子）等领域具有重要应用。
4. **核废料处理**：束源炉可以用于研究和开发核废料处置和转化技术，降低其长期放射性。
5. **新型能源开发**：在聚变能源研究中，束源炉也被应用于研究高温等离子体的行为，以探索可持续的能源解决方案。
束源炉的适用范围不断拓展，随着技术进步和研究的发展，可能会有新的应用领域出现。
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