真空腔室L400×W440×H450mm,采用SUS304优质不锈钢
观察窗Φ100mm,含磁力挡板
屏蔽板不锈钢,便于拆卸清洁、更换
水冷蒸发电极8根组成4组
金属蒸发电源功率3kW
复合分子泵JTFB-650Z脂润滑分子泵,抽速650L/s
直联高速旋片式真空泵TRP-36,抽速9L/s
气动高真空插板阀DN150
前级阀/旁路阀DN40
放气阀φ10 电磁充气阀
数显复合真空计两低一高,含规管
波纹管、真空管道材质SUS304不锈钢
热蒸发手套箱一体机是一种用于材料制备和真空蒸发的设备。它结合了手套箱和热蒸发系统,可以在惰性气体氛围下进行样品处理,确保材料的稳定性和纯度。以下是这种设备的一些主要功能和特点:
1. **真空环境**: 手套箱内部可以保持低氧或低水分的环境,这对于许多敏感材料重要。
2. **热蒸发技术**: 通过加热蒸发源,将固体材料转变为气态,然后在底物上沉积,为薄膜材料的制备提供了有效的方法。
3. **自动化控制**: 现代一体机通常配备有计算机控制系统,能够控制蒸发速率和沉积厚度。
4. **多功能性**: 除了热蒸发外,有些设备还可以集成其他材料沉积技术,如电子束蒸发或激光蒸发。
5. **安全性**: 手套箱设计可以避免操作者直接接触有毒或危险的材料,提供更安全的操作环境。
6. **适用范围广**: 这种设备广泛应用于光电子、半导体、材料科学以及纳米技术等领域。
如果需要了解更多关于该设备的具体应用或技术参数,欢迎询问!
热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学、材料科学等领域。其主要特点包括:
1. **高纯度材料沉积**:通过热蒸发可以有效地沉积高纯度的薄膜,减少杂质的影响。
2. **良好的膜质量**:热蒸发镀膜技术能够形成均匀且致密的薄膜,具备较好的光学和电气性能。
3. **高沉积速率**:相较于其他镀膜技术,热蒸发具有较高的沉积速率,适合大规模生产。
4. **温度控制灵活**:设备通常配备精密的温度控制系统,可以根据不同材料的特性调整加热温度。
5. **适用广泛**:可以镀覆多种材料,如金属、合金、半导体及绝缘材料等,适用性强。
6. **工艺简单**:热蒸发镀膜工艺相对简单,易于操作和控制。
7. **真空环境**:通常在真空环境中进行,有效减少气体污染,提高膜层质量。
8. **设备投资较低**:相对于其他镀膜设备(如磁控溅射镀膜机),热蒸发镀膜机的设备成本相对较低。
9. **可控性强**:可以通过改变蒸发源的距离、功率和基片温度等来调节膜层的厚度和属性。
总之,热蒸发镀膜机是一种、灵活且经济的薄膜沉积设备,适合应用需求。

**蒸发镀膜机是一种用于将**材料(如**半导体、发光材料等)蒸发并沉积到基材上的设备。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**: 可以在基材表面均匀沉积**薄膜,常用于**电子设备如OLED显示器、太阳能电池等的制作。
2. **真空蒸发**: 在高真空环境下进行蒸发,避免了材料的氧化和污染,从而提高薄膜的质量。
3. **可控性**: 通过调整蒸发速率、温度和沉积时间,可以控制薄膜的厚度和均匀性。
4. **材料兼容性**: 能够处理多种**材料,包括聚合物、**小分子等,适用范围广泛。
5. **多层结构**: 可以实现多层镀膜,从而构建复杂的光电结构,满足不同器件的需求。
6. **批量生产能力**: 适合大规模生产,具备的生产能力。
7. **自动化控制**: 一些设备配备自动化系统,可以实现自动加载、监测和控制,提高生产效率和稳定性。
总的来说,**蒸发镀膜机在**光电器件的制造中发挥着至关重要的作用。

热蒸发手套箱一体机是一种用于材料制备和微纳米技术研究的设备,主要功能包括:
1. **真空环境控制**:手套箱内可维持低压或真空状态,防止材料氧化或水分污染。
2. **热蒸发源**:通过加热材料,使其蒸发并在基片上沉积,以形成薄膜或纳米结构。
3. **气氛控制**:可以根据需要调节手套箱内的气氛,比如惰性气体(氮气、氩气)环境,以保护敏感材料。
4. **样品处理**:提供多种方式处理样品,包括加热、冷却、刻蚀等。
5. **厚度控制**:配备的监测系统,可实时监测并控制薄膜的厚度。
6. **操作安全性**:手套箱设计确保操作人员在处理有害或敏感材料时的安全。
7. **自动化系统**:部分型号具备自动化操作功能,提高实验效率并减少人为误差。
8. **配备监测设备**:可以与仪器(如电子显微镜、X射线衍射仪等)联用,进行材料性质分析。
总之,热蒸发手套箱一体机是多功能且的材料制备设备,广泛应用于半导体、光电材料、薄膜技术等领域。

热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于材料科学、光电器件制造、表面改性等领域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过热蒸发过程将材料(如金属、半导体或绝缘体)加热温,使其蒸发并在基材表面沉积形成薄膜。
2. **膜层控制**:可控制沉积速率和膜层厚度,以满足不同应用的要求。
3. **真空环境**:在高真空条件下操作,减少气体分子对蒸发材料的干扰,从而提高膜层质量。
4. **材料多样性**:能够使用多种不同的蒸发材料,满足不同材料系统的需求。
5. **均匀性**:能够实现均匀的膜层沉积,适用于大面积基材的镀膜。
6. **兼容性**:可以与其他镀膜技术(如溅射、化学气相沉积等)结合使用,以实现更复杂的薄膜结构。
7. **自动化与监控**:许多现代热蒸发镀膜机配备了自动化控制系统和监测仪器,方便实时监控沉积过程。
通过这些功能,热蒸发镀膜机在电子器件、光学元件、传感器等领域中扮演着重要角色。
束源炉(也称为束流炉或电子束炉)是利用高能电子束在真空环境中进行加热和熔化材料的设备。其适用范围广泛,主要包括以下几个方面:
1. **金属冶炼与铸造**:束源炉可以用于高熔属的熔化,如钨、铼等稀有金属。此外,它也适用于铸造合金,特别是在需要控制合金成分时。
2. **材料加工**:束源炉常用于金属的热处理、表面处理和焊接等工艺。由于电子束的能量集中,可以实现高温熔化和快速冷却,提高材料的力学性能。
3. **电子元件制造**:在某些电子器件的制造过程中,束源炉可以用来处理半导体材料,以提高其性能和可靠性。
4. **真空镀膜**:束源炉可以用来蒸发和沉积薄膜材料,广泛应用于光学涂层、电子器件及功能性薄膜的制备。
5. **核能和领域**:束源炉在核材料的处理和器材料的加工中也发挥着重要作用,特别是在需要特殊材料或高温条件下的应用。
总的来说,束源炉因其、高温、的特点,在多个制造领域都得到了广泛应用。
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