真空腔室Ф246×228mm，304优质不锈钢
分子泵进口Pfeiffer分子泵
前级泵机械泵，北仪优成
真空规全量程真空规，上海玉川
溅射靶Ф2英寸永磁靶2支（含靶挡板）
溅射电源500W直流电源1台，300W射频电源1台
流量计20sccm/50sccm进口WARWICK
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
旁路阀GDC-25b电磁挡板阀1套
限流阀DN63mm一套
充气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
放气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
基片台Ф100mm，高度：60～120mm可调，旋转：0-20r/min可调，可加热至300℃
膜厚监控仪进口Inficon SQM-160单水冷探头，精度0.1Å（选配）
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35法兰一个
备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
溅射靶是一种用于材料科学和薄膜沉积的设备。其工作原理是利用高能粒子轰击靶材，使得靶材表面原子或分子飞出并沉积到基底上，从而形成薄膜。这种技术在半导体、光电器件和其他电子材料的制造中得到了广泛应用。
溅射靶的种类有很多，包括直流溅射、射频溅射和脉冲磁控溅射等，不同类型的溅射靶适用于不同的材料和应用。整体来说，溅射技术具有沉积速率高、膜层均匀性好、适用材料广泛等优点，但也需要控制参数如气体流量、压力和功率等，以获得满意的薄膜质量。
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溅射靶是一种用于薄膜沉积技术的设备，广泛应用于物理、材料科学和半导体工业。其主要功能包括：
1. **物质沉积**：通过溅射技术将靶材（如金属、合金或氧化物）中的原子或分子打出，并在基材表面形成薄膜。
2. **薄膜均匀性**：溅射靶能够在较大的面积上实现均匀的薄膜沉积，这对许多应用至关重要。
3. **控制膜厚度**：通过调整溅射时间、功率和气氛等参数，可以控制沉积膜的厚度。
4. **材料多样性**：能够处理多种不同类型的靶材，适用于不同的应用需求。
5. **低温沉积**：溅射过程通常在较低温度下进行，因此适合一些热敏材料的沉积。
6. **量膜**：溅射技术可制作高致密性、低缺陷的薄膜，适合高性能电子元件和光电器件等。
7. **大面积沉积**：有些溅射靶可以实现大面积的一次性沉积，适合工业化生产。
8. **功能薄膜制备**：可以用于制备功能性薄膜，如透明导电氧化物（TCO）、磁性薄膜及其他材料。
溅射靶的技术进步与材料科学的发展密切相关，对推动新材料的研究和应用起到了重要作用。
桌面型磁控溅射镀膜仪是一种广泛应用于材料科学、电子学、光学等领域的设备，其主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：可在基材上沉积薄膜，形成不同厚度和成分的薄膜材料。
2. **材料多样性**：支持多种靶材（如金属、合金、氧化物等），能够制作出不同种类的薄膜。
3. **优良的膜质量**：采用磁控溅射技术，可以有效提高薄膜的均匀性和致密性，提高膜的性能。
4. **可调节参数**：可以调节溅射功率、气体流量、基片温度等参数，以满足不同工艺要求。
5. **大面积镀膜**：由于其设计，可以适用于大面积基片的镀膜需求，在科研和工业生产中具有较高的应用价值。
6. **过程控制**：配备监测系统，可以实时监测膜厚度、气氛等，有助于控制沉积过程。
7. **易于操作**：桌面型的设计使得设备更加紧凑，操作相对简单，适合实验室环境使用。
8. **真空技术**：工作过程中保持真空环境，减少污染，提高沉积质量。
这种设备在半导体器件制造、光学涂层、传感器、太阳能电池等多个领域具有重要应用价值。
样品台，通常用于实验室、工业生产和研究等领域，具有以下几个特点：
1. **稳定性**：样品台通常设计得稳定，以确保在进行实验或观察时，样品受到外部震动或干扰的影响。
2. **调整功能**：许多样品台具有高度可调节性，允许用户根据需要调整样品的位置和角度，以便于观察和测量。
3. **易清洁性**：样品台通常采用易于清洗的材料，能够防止样品的污染，同时在使用过程中保持卫生。
4. **多功能性**：某些样品台配备了不同的附件和配件，支持实验需求，例如光学显微镜、测量仪器等。
5. **适应性强**：样品台的设计往往可以根据不同类型的样品（如液体、固体、粉末等）进行调整，以适应不同的实验需求。
6. **材料选用**：样品台通常采用耐腐蚀、耐高温或其他特殊材料，以适应不同实验环境。
7. **标记系统**：许多样品台上会有标记或者刻度，使用户能够定位样品位置。
8. **光学性能**：在光学实验中，样品台可能会考虑透光性和反射性，以确保观测效果的清晰度。
这些特点使得样品台在不同领域的应用中显得尤为重要，能够提高实验的性和效率。
离子溅射仪是一种用于材料表面分析和处理的设备，主要功能包括：
1. **材料沉积**：可以用于在基材表面上沉积薄膜，常见于半导体、光电子器件和表面涂层的制造。
2. **表面分析**：通过溅射过程，可以分析材料的成分和结构，常用于质谱分析和表面分析技术，如时间飞行质谱（TOF-MS）。
3. **清洁和去除涂层**：可以去除材料表面的污染物或旧涂层，为后续处理做好准备。
4. **再结晶和表面改性**：可以通过离子轰击改变材料的表面状态，如增加薄膜的粘附力、改善光学性能等。
5. **刻蚀**：在微电子工艺中，用于刻蚀特定区域，形成所需的图案和结构。
6. **离子 implantation**：将离子注入材料中，以改变其电学、光学或机械性质。
离子溅射仪在材料科学、微电子、纳米技术等领域有着广泛的应用。
小型磁控溅射镀膜机是一种常见的薄膜沉积设备，广泛应用于多个领域。其适用范围主要包括：
1. **材料科学**：用于研究新材料的特性和薄膜的性能，可以制备金属、合金和合成材料的薄膜。
2. **电子器件**：在半导体、光电器件等领域，常用于制造电极、保护膜和介电层等。
3. **光学 coating**：用于光学元件的镀膜，如镜头、光学滤光片、防反射涂层等。
4. **太阳能电池**：用于镀膜太阳能电池的材料，提升其光电转换效率。
5. **传感器**：在传感器的制造中用于沉积感应膜，提升其性能和稳定性。
6. **饰品与装饰品**：用于金属表面的装饰性镀膜，提高美观及防腐蚀性能。
7. **生物医学**：在生物材料和器械的表面改性中，改善表面特性，促进生物相容性。
8. **实验室研究**：小型设备适合于科研实验室进行材料合成与性质测试。
小型磁控溅射镀膜机因其操作灵活、适用性广泛，受到许多行业和科研机构的欢迎。
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