真空腔室Ф246×260mm,304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源(兼容金属与**蒸发)3组,可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台,供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm,具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
束源炉是一种用于聚变研究和安全应用的装置,主要用于产生和控制高温等离子体。它通常采用磁约束方式来保持等离子体的稳定性,使得核反应能够在相对较长的时间内持续进行。这类装置在核聚变能的研发中具有重要的地位,尤其是在实现清洁能源的大规模应用方面,有着潜在的重大意义。
束源炉的工作原理通常涉及将和氚作为燃料,通过加热和压缩等离子体,使其达到聚变所需的条件。与传统的能量生产方式相比,聚变能具有较低的放射性废物产生、丰富的燃料来源和较高的能量输出等优点。
目前,许多都在进行聚变能的研究,尤其是国际热核聚变实验反应堆(ITER)项目,旨在通过合作研发安全、的聚变技术,推动清洁能源的实现。
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学和材料科学等领域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:电阻蒸镀机能够将材料(如金属、合金、氧化物等)以蒸发形式沉积在基材表面,形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**:设备通常配备的温度控制和蒸发速率监测系统,可以控制薄膜的厚度和均匀性。
3. **多种材料兼容**:电阻蒸镀机可以用于多种类型的材料沉积,包括金属(如铝、金、银)、合金以及一些特定的化合物。
4. **真空环境**:通过在真空环境中进行沉积,可以减少气体分子对薄膜沉积的影响,从而提高薄膜的品质和性能。
5. **可调参数**:用户可以根据实际需求调整沉积温度、速率、时间等参数,以实现不同的应用效果。
6. **应用广泛**:电阻蒸镀机常用于制造光学元件、半导体器件、传感器、太阳能电池等多种产品。
7. **自动化程度高**:现代电阻蒸镀机通常具备计算机控制系统,可以实现自动化操作,提高生产效率。
总之,电阻蒸镀机是一种重要的薄膜制备工具,其优越的性能使其在科学研究和工业生产中都得到了广泛应用。
手套箱一体机是一种结合了手套箱和其他实验设备的综合性实验装置,主要用于处理在惰性气氛(如氮气、氦气等)下进行的实验或操作。其功能通常包括:
1. **惰性气体保护**:手套箱内可以充入惰性气体,避免实验材料与空气中的水分和氧气反应,保护样品的纯净性。
2. **手套操作**:设备通常配有手套,可以在不暴露于外部环境的情况下进行实验操作,如取样、装置组装等。
3. **样品存储**:手套箱内部可以用于存放敏感材料和试剂,确保其不受外界污染。
4. **气体监控**:一些手套箱一体机配备气体监控系统,可以实时监测箱内环境,确保气体浓度和成分的稳定。
5. **温度和湿度控制**:可以调节和控制箱内的温度和湿度,为实验提供理想环境。
6. **接口扩展**:某些手套箱一体机设计有多种接口,可以与其他实验设备联动,如真空泵、反应釜等。
7. **数据记录与控制**:部分设备能够连接计算机或其他控制系统,实现数据记录和实验过程的自动化监控。
手套箱一体机广泛应用于材料科学、化学反应、制药、生物实验等领域,尤其在对氧敏感或湿敏性的材料处理上具有重要意义。
电阻蒸镀机是一种广泛应用于薄膜沉积技术的设备,主要用于在基材表面沉积金属或其他材料。其主要特点包括:
1. **能**:电阻蒸镀机能够快速有效地将材料蒸发并沉积到基材上,适合大规模生产和连续作业。
2. **控制精度高**:该设备通常配备精密的电流和温度控制系统,可以准确调节蒸发过程中材料的蒸发速率,从而实现均匀的薄膜厚度。
3. **材料适应性强**:电阻蒸镀机可以使用多种金属和合金材料,包括铝、铜、银、金等。
4. **真空环境**:为了提高沉积质量,电阻蒸镀过程通常在真空环境下进行,减少了氧化和污染的风险。
5. **简便的操作**:相较于其他蒸镀技术,电阻蒸镀机的操作相对简单,易于实现自动化。
6. **可实现多层沉积**:通过控制同时蒸发不同材料,电阻蒸镀机可以实现多层膜的沉积,适用于复杂的光电器件和微电子器件的制造。
7. ****:相较于其他一些物相沉积技术,电阻蒸镀机的设备和运行成本较低。
8. **环保性**:电阻蒸镀过程中产生的废物较少,对环境的影响相对较小。
这些特点使电阻蒸镀机在半导体、光电材料、光学涂层等领域获得了广泛应用。
钙钛矿镀膜机是一种用于制备钙钛矿材料的设备,广泛应用于光电材料的研究和产业化。以下是钙钛矿镀膜机的一些主要特点:
1. **高精度控制**:钙钛矿镀膜机通常配备高精度的温度、气体流量和压力控制系统,能够实现对膜厚度和质量的控制。
2. **多种成膜技术**:设备可能支持多种成膜技术,如溶液法、真空蒸发、磁控溅射、化学气相沉积(CVD)等,以满足不同材料和应用的需求。
3. **均匀性好**:钙钛矿镀膜机通过优化基板旋转、气体流动等参数,能够实现高均匀性的薄膜沉积,提高材料性能。
4. **适应性强**:可适用于不同类型的基材,包括玻璃、硅片、塑料等,提供更大的设计灵活性。
5. **快速换膜**:许多钙钛矿镀膜机设计有快速换膜功能,方便进行不同材料的快速切换,提高生产效率。
6. **环境友好**:新型钙钛矿镀膜机在材料使用和废气处理方面越来越注重环保,减少对环境的影响。
7. **便于规模化生产**:具备一定自动化程度的设备可以支持大规模生产,满足工业化需求。
8. **实时监控与数据记录**:设备通常配备实时监控系统,可以记录沉积过程中的各项数据,便于后续分析和优化。
这些特点使得钙钛矿镀膜机在光伏、发光二极管(LED)、激光器等领域具有广泛的应用前景。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种广泛应用于材料科学、电子、光电和薄膜技术等领域的设备。其主要适用范围包括:
1. **光学镀膜**:用于制作抗反射涂层、增透膜、反射镜等光学元件。
2. **电子器件**:可用于制备半导体器件中的金属层、绝缘层和其他功能膜,比如太阳能电池、发光二极管(LED)等。
3. **硬涂层**:在工具、模具等表面镀膜,以提高其耐磨性、抗腐蚀性和整体性能。
4. **传感器**:在气体传感器、湿度传感器等的开发中,利用镀膜技术提高传感器的灵敏度和选择性。
5. **薄膜材料研究**:用于基础研究,探索材料的薄膜生长行为及其物理性质。
6. **实验室应用**:适合小批量生产和实验室研究,可以在实验室环境中进行多种不同材料的蒸发镀膜。
7. **装饰镀膜**:用于生产装饰性薄膜,如金属光泽涂层等。
桌面型热蒸发镀膜仪以其操作简便、成本相对较低,适合科研、教学和小规模生产等多种场合。
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