真空腔室Ф246×260mm，304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源（兼容金属与**蒸发）3组，可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台，供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm，具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
钙钛矿镀膜机是一种用于生产钙钛矿材料薄膜的设备，钙钛矿材料在光伏、发光器件、催化和传感器等领域有广泛应用。钙钛矿通常是指具有ABO3型晶体结构的化合物，常见的钙钛矿材料包括钙钛矿型太阳能电池（如CH3NH3PbI3）等。
钙钛矿镀膜机的常见工作原理包括以下几种技术：
1. **溶液法（Spin Coating）**：通过将溶液滴加到基底上，然后通过高速旋转使溶液均匀铺展，终形成薄膜。
2. **真空蒸镀**：利用真空环境下的蒸发技术，将钙钛矿材料蒸发并沉积到基底上，形成薄膜。
3. **脉冲激光沉积（PLD）**：使用激光脉冲击材，将材料转化为气相，并在基底上沉积形成薄膜。
4. **化学气相沉积（CVD）**：通过气相反应，在基底上沉积钙钛矿材料。
钙钛矿镀膜机通常配备了温度控制、气氛控制、旋转速度调节等功能，以保证薄膜的均匀性和性能。同时，设备的自动化程度也是一个重要的考虑因素，以提高生产效率。
在选择钙钛矿镀膜机时，需要考虑的因素包括所需薄膜的厚度、均匀性、材料类型及生产规模等。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种常用的薄膜沉积设备，具有以下几个显著特点：
1. **紧凑设计**：桌面型热蒸发镀膜仪通常体积较小，适合在实验室或小型生产环境中使用，便于放置和操作。
2. **蒸发**：利用热源加热蒸发材料，使其蒸发并沉积在基底上，能够实现的薄膜沉积。
3. **材料多样性**：可以使用多种类型的蒸发材料，如金属、氧化物等，适应不同的应用需求。
4. **真空系统**：一般配备有真空泵，能够在相对较低的压力下工作，提高膜层的纯度和均匀性。
5. **易于控制**：搭载有控制系统，能调节蒸发速率和沉积厚度，方便用户根据实验要求进行参数设置。
6. **适应性强**：可用于不同尺寸和形状的基底，如平片、胶卷等，满足不同实验或生产需求。
7. **品质监测**：一些型号可能配备有膜厚监测系统，实时监控沉积过程，确保膜厚的一致性。
8. **维护简单**：相对而言，桌面型热蒸发镀膜仪的维护和操作相对简单，适合研究人员和技术人员使用。
总之，桌面型热蒸发镀膜仪以其灵活性、便捷性和性，在材料科学、光电器件制造及其他相关领域得到了广泛应用。
束源炉是一种特殊类型的核反应堆，主要用于研究和医学应用。它的特点包括：
1. **中子源**：束源炉能够产生大量的中子，这些中子可用于材料研究、核检测、医学成像及等领域。
2. **小型化**：与传统的核反应堆相比，束源炉通常较小，设计上更为紧凑，适合于实验室或等场所。
3. **低功率运行**：束源炉的运行功率相对较低，一般在几千瓦到几兆瓦之间，适合用于中子辐照实验。
4. **安全性**：由于功率较低，束源炉的设计通常具有更高的安全性，反应堆的重要系统和结构更易于控制。
5. **多用途**：除了用于基础科学研究外，束源炉还可用于材料分析、核医学以及教育等多个领域，显示出其多功能性。
6. **易于安装与维护**：束源炉一般设计得更加便捷，方便安装和日常维护。
7. **放射性废物处理**：由于其低功率的特性，所产生的放射性废物相对较少，处理相对简单。
这些特点使得束源炉在研究和应用中发挥了重要的作用。
束源炉（或称束流反应堆）是一种利用粒子束产生高能粒子的设备，主要用于研究和应用于核物理、材料科学、医学等领域。其主要功能包括：
1. **粒子加速**：束源炉能够加速粒子到高能状态，为后续的实验提供足够的能量。
2. **粒子束应用**：通过产生高能粒子束，束源炉可以用于材料的改性、诊断以及产生放射性同位素。
3. **核反应研究**：支持核物理研究，例如基本粒子的相互作用、核结构和反应机制等。
4. **医学应用**：在放射和核医学中用于产生适用于的放射性同位素。
5. **探测**：用于开发和测试探测器及相关技术。
总结来说，束源炉是在科学研究和工业应用中重要的工具，具有多种功能。
蒸发舟是一种常用于材料科学和薄膜制备的设备，特别是在物相沉积（PVD）技术中。蒸发舟的主要作用是通过加热将固态材料转化为气态，以实现薄膜的沉积。蒸发舟蒸发颗粒的特点主要包括以下几个方面：
1. **均匀性**：蒸发过程中，颗粒的蒸发速率较为均匀，能够在基底上形成均匀的薄膜。
2. **可控性**：通过调节加热温度和加热时间，可以控制蒸发速率，从而调节薄膜的厚度和组成。
3. **材料兼容性**：蒸发舟可以用于多种不同材料的蒸发，如金属、氧化物和高分子材料等，适应性较强。
4. **颗粒尺寸**：蒸发颗粒的尺寸通常较小，有助于加快蒸发速度，提升薄膜的沉积效率。
5. **高纯度**：蒸发舟中使用的材料一般要求高纯度，以确保终薄膜的性能和质量。
6. **热稳定性**：蒸发舟本身需要具备良好的热稳定性，以承受高温而不发生变形或熔化。
7. **气氛控制**：蒸发实验通常在真空或特定气氛中进行，以避免反应杂质的影响，确保颗粒的质量。
这些特点使得蒸发舟在真空蒸发和其他沉积技术中得到了广泛应用。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种广泛应用于材料科学、电子、光电和薄膜技术等领域的设备。其主要适用范围包括：
1. **光学镀膜**：用于制作抗反射涂层、增透膜、反射镜等光学元件。
2. **电子器件**：可用于制备半导体器件中的金属层、绝缘层和其他功能膜，比如太阳能电池、发光二极管（LED）等。
3. **硬涂层**：在工具、模具等表面镀膜，以提高其耐磨性、抗腐蚀性和整体性能。
4. **传感器**：在气体传感器、湿度传感器等的开发中，利用镀膜技术提高传感器的灵敏度和选择性。
5. **薄膜材料研究**：用于基础研究，探索材料的薄膜生长行为及其物理性质。
6. **实验室应用**：适合小批量生产和实验室研究，可以在实验室环境中进行多种不同材料的蒸发镀膜。
7. **装饰镀膜**：用于生产装饰性薄膜，如金属光泽涂层等。
桌面型热蒸发镀膜仪以其操作简便、成本相对较低，适合科研、教学和小规模生产等多种场合。
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