真空腔室Ф246×260mm，304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源（兼容金属与**蒸发）3组，可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台，供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm，具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备，广泛应用于光学、电子、材料科学等领域。其基本原理是通过加热材料，使其蒸发成气态，然后在基底表面凝结形成薄膜。热蒸发镀膜机通常由以下几个主要部分组成：
1. **真空腔体**：提供低压环境，以减少气体分子对蒸发材料和沉积薄膜的干扰。
2. **加热源**：通常使用电阻加热丝或电子束加热来加热蒸发材料，达到其蒸发温度。
3. **蒸发源**：放置待蒸发材料的容器，可以是铸坯、靶材等。
4. **基底夹持系统**：用于固定和加热待涂覆的基底，一般位于蒸发源的上方。
5. **监控系统**：用于监测沉积速度和膜厚，常用的技术有石英晶体振荡器或光学膜厚测量。
6. **冷却系统**：在一些情况下，可能需要冷却基底以改善膜的品质。
热蒸发镀膜机的优点包括沉积速度快、膜层均匀、膜的纯度高等，但也有局限性，如膜的附着力和应力问题。
在选购和使用热蒸发镀膜机时，需要根据具体的应用需求，例如膜材料、沉积速率、膜厚度及基底材料等制定相应的方案。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种常用的薄膜沉积设备，具有以下几个显著特点：
1. **紧凑设计**：桌面型热蒸发镀膜仪通常体积较小，适合在实验室或小型生产环境中使用，便于放置和操作。
2. **蒸发**：利用热源加热蒸发材料，使其蒸发并沉积在基底上，能够实现的薄膜沉积。
3. **材料多样性**：可以使用多种类型的蒸发材料，如金属、氧化物等，适应不同的应用需求。
4. **真空系统**：一般配备有真空泵，能够在相对较低的压力下工作，提高膜层的纯度和均匀性。
5. **易于控制**：搭载有控制系统，能调节蒸发速率和沉积厚度，方便用户根据实验要求进行参数设置。
6. **适应性强**：可用于不同尺寸和形状的基底，如平片、胶卷等，满足不同实验或生产需求。
7. **品质监测**：一些型号可能配备有膜厚监测系统，实时监控沉积过程，确保膜厚的一致性。
8. **维护简单**：相对而言，桌面型热蒸发镀膜仪的维护和操作相对简单，适合研究人员和技术人员使用。
总之，桌面型热蒸发镀膜仪以其灵活性、便捷性和性，在材料科学、光电器件制造及其他相关领域得到了广泛应用。
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备，广泛应用于电子、光学和材料科学等领域。其主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：电阻蒸镀机能够将材料（如金属、合金、氧化物等）以蒸发形式沉积在基材表面，形成均匀的薄膜。
2. **高精度控制**：设备通常配备的温度控制和蒸发速率监测系统，可以控制薄膜的厚度和均匀性。
3. **多种材料兼容**：电阻蒸镀机可以用于多种类型的材料沉积，包括金属（如铝、金、银）、合金以及一些特定的化合物。
4. **真空环境**：通过在真空环境中进行沉积，可以减少气体分子对薄膜沉积的影响，从而提高薄膜的品质和性能。
5. **可调参数**：用户可以根据实际需求调整沉积温度、速率、时间等参数，以实现不同的应用效果。
6. **应用广泛**：电阻蒸镀机常用于制造光学元件、半导体器件、传感器、太阳能电池等多种产品。
7. **自动化程度高**：现代电阻蒸镀机通常具备计算机控制系统，可以实现自动化操作，提高生产效率。
总之，电阻蒸镀机是一种重要的薄膜制备工具，其优越的性能使其在科学研究和工业生产中都得到了广泛应用。
束源炉（或称束流反应堆）是一种利用粒子束产生高能粒子的设备，主要用于研究和应用于核物理、材料科学、医学等领域。其主要功能包括：
1. **粒子加速**：束源炉能够加速粒子到高能状态，为后续的实验提供足够的能量。
2. **粒子束应用**：通过产生高能粒子束，束源炉可以用于材料的改性、诊断以及产生放射性同位素。
3. **核反应研究**：支持核物理研究，例如基本粒子的相互作用、核结构和反应机制等。
4. **医学应用**：在放射和核医学中用于产生适用于的放射性同位素。
5. **探测**：用于开发和测试探测器及相关技术。
总结来说，束源炉是在科学研究和工业应用中重要的工具，具有多种功能。
热蒸发镀膜机是一种常用于薄膜沉积的设备，其主要特点包括：
1. **高纯度镀膜**：由于采用高温加热源，能有效蒸发材料，沉积出的薄膜通常具有较高的纯度。
2. **良好的均匀性**：通过合理设计源与基片之间的距离，可以实现较均匀的膜层厚度。
3. **适用范围广**：可以用于多种材料的沉积，包括金属、半导体及一些绝缘材料。
4. **沉积速率可调**：通过调节加热温度和蒸发源的功率，可以实现不同沉积速率，满足不同应用需求。
5. **操作简便**：热蒸发镀膜机的操作相对简单，适合实验室及工业生产使用。
6. **适配性强**：可以与其他设备如真空系统、光学测厚仪等配合，提升沉积效果和膜层质量。
7. **成本效益高**：相较于其他镀膜技术，热蒸发镀膜机的设备投资和运行成本通常较低。
8. **膜层控制能力强**：可以通过调整蒸发时间和材料供应来实现膜厚的控制。
总的来说，热蒸发镀膜机以其优良的膜层质量和较为简单的操作，在科研和工业应用中广泛使用。
小型热蒸发镀膜机广泛应用于多个领域，主要适用范围包括：
1. **光学元件**：用于制作光学薄膜，如反射镜、抗反射膜、分光膜等，广泛应用于镜头、光学仪器等。
2. **电子器件**：在半导体器件、电路板等制造中，镀膜可以用于形成导电层、绝缘层及其他功能性薄膜。
3. **太阳能电池**：用于太阳能电池的镀膜，提高光电转换效率。
4. **显示器件**：应用于LCD、OLED等显示屏的薄膜制作，提高显示效果和耐用性。
5. **装饰性涂层**：用于制造装饰性涂层，如金属镀层、彩色薄膜等，增强产品的美观性。
6. **传感器**：用于传感器表面的功能性涂层，提高灵敏度和选择性。
7. **研究和实验室**：在材料科学和物理等研究中，用于制备薄膜材料，探索其性质和应用。
由于小型热蒸发镀膜机具有操作简单、灵活性高等优点，适合于小批量生产和科研试验，因此在以上领域得到了广泛使用。
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