真空腔室L400×W440×H450mm,采用SUS304优质不锈钢
观察窗Φ100mm,含磁力挡板
屏蔽板不锈钢,便于拆卸清洁、更换
水冷蒸发电极8根组成4组
金属蒸发电源功率3kW
复合分子泵JTFB-650Z脂润滑分子泵,抽速650L/s
直联高速旋片式真空泵TRP-36,抽速9L/s
气动高真空插板阀DN150
前级阀/旁路阀DN40
放气阀φ10 电磁充气阀
数显复合真空计两低一高,含规管
波纹管、真空管道材质SUS304不锈钢
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于半导体、光电、 optics 等领域。它的基本工作原理是通过电阻加热将材料(通常是金属或合金)加热到蒸发温度,使其从固态转变为气态,然后冷却后在基材上形成薄膜。
以下是电阻蒸镀机的一些关键组成部分和特点:
1. **电阻加热源**:通过电阻丝或钨丝加热蒸发源,相关温度能够控制材料的蒸发速率。
2. **真空室**:在真空环境下进行蒸镀可以减少气体分子的干扰,从而提高薄膜的质量和纯度。
3. **蒸发源**:放置待蒸发材料的地方,常用的材料有铝、金、银等。
4. **基材夹持系统**:用于固定待涂覆的物体,确保薄膜均匀性。
5. **厚度监测器**:通常使用晶体监测器(如QCM)来实时监测薄膜的厚度,确保达到预定的沉积量。
6. **冷却系统**:在蒸镀过程中,冷却系统可以防止设备过热,保证设备和材料的稳定性。
电阻蒸镀机具有操作简便、控制准确和沉积均匀等优点,适合大面积和高均匀性薄膜的制备。由于其热沉积的特性,相比其他蒸镀方式(例如电子束蒸镀),更适合处理低熔属和合金。
电阻蒸镀机是一种常用于薄膜制作的设备,尤其在半导体、光电和光学材料的制造中广泛应用。其主要特点包括:
1. **高真空环境**:电阻蒸镀机通常在高真空条件下工作,这有助于控制薄膜的质量,减少气体污染。
2. **均匀性**:由于蒸发源的设计和定位,电阻蒸镀可以实现良好的膜厚均匀性,适合对膜层均匀性要求较高的应用。
3. **可控性**:通过调节电流和蒸发源与基板之间的距离,可以控制薄膜的生长速率和厚度,便于实现膜层的特定要求。
4. **适用材料广泛**:电阻蒸镀机能够蒸发多种金属和合金,如铝、铜、镍等,也可用于某些氧化物和其他材料的沉积。
5. **易于操作**:操作相对简单,用户可以通过计算机界面或控制面板快速设置和调整参数。
6. **可扩展性**:许多电阻蒸镀机设计上支持多种蒸发源,可以根据生产需求进行灵活配置,满足不同材料和工艺要求。
7. **经济效益**:相比其他蒸镀技术(如溅射或化学气相沉积),电阻蒸镀机的设备和运行成本相对较低,适合大规模生产。
8. **适应性强**:不仅适用于实验室研究,还可用于工业生产,适用于基材(如玻璃、塑料、硅片等)的薄膜沉积。
综上所述,电阻蒸镀机因其、灵活和经济性,成为许多领域中常用的薄膜沉积设备。
热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学、材料科学等领域。其主要特点包括:
1. **高纯度材料沉积**:通过热蒸发可以有效地沉积高纯度的薄膜,减少杂质的影响。
2. **良好的膜质量**:热蒸发镀膜技术能够形成均匀且致密的薄膜,具备较好的光学和电气性能。
3. **高沉积速率**:相较于其他镀膜技术,热蒸发具有较高的沉积速率,适合大规模生产。
4. **温度控制灵活**:设备通常配备精密的温度控制系统,可以根据不同材料的特性调整加热温度。
5. **适用广泛**:可以镀覆多种材料,如金属、合金、半导体及绝缘材料等,适用性强。
6. **工艺简单**:热蒸发镀膜工艺相对简单,易于操作和控制。
7. **真空环境**:通常在真空环境中进行,有效减少气体污染,提高膜层质量。
8. **设备投资较低**:相对于其他镀膜设备(如磁控溅射镀膜机),热蒸发镀膜机的设备成本相对较低。
9. **可控性强**:可以通过改变蒸发源的距离、功率和基片温度等来调节膜层的厚度和属性。
总之,热蒸发镀膜机是一种、灵活且经济的薄膜沉积设备,适合应用需求。
**蒸发镀膜机是一种用于将**材料(如**半导体、发光材料等)蒸发并沉积到基材上的设备。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**: 可以在基材表面均匀沉积**薄膜,常用于**电子设备如OLED显示器、太阳能电池等的制作。
2. **真空蒸发**: 在高真空环境下进行蒸发,避免了材料的氧化和污染,从而提高薄膜的质量。
3. **可控性**: 通过调整蒸发速率、温度和沉积时间,可以控制薄膜的厚度和均匀性。
4. **材料兼容性**: 能够处理多种**材料,包括聚合物、**小分子等,适用范围广泛。
5. **多层结构**: 可以实现多层镀膜,从而构建复杂的光电结构,满足不同器件的需求。
6. **批量生产能力**: 适合大规模生产,具备的生产能力。
7. **自动化控制**: 一些设备配备自动化系统,可以实现自动加载、监测和控制,提高生产效率和稳定性。
总的来说,**蒸发镀膜机在**光电器件的制造中发挥着至关重要的作用。
束源炉(也称束流源或粒子束源)是一种产生高能粒子束的装置,广泛应用于粒子物理、材料科学、医学和工业等领域。其主要功能包括:
1. **粒子束生成**:束源炉能够生成高能电子、质子或离子束,供给实验或应用需要。
2. **加速粒子**:通过电场和磁场加速粒子到所需的能量,从而实现对粒子的控制和操纵。
3. **材料研究**:在材料科学中,束源炉可用于对材料进行辐照实验,研究其在高能粒子辐照下的结构和性能变化。
4. **医学应用**:在领域,束源炉可以用于(如质子疗法)、放射等。
5. **显微成像**:利用电子束进行扫描隧道显微镜(STM)或透射电子显微镜(TEM)等高分辨率成像。
6. **同位素生产**:产生短寿命或特定同位素,以用于医学成像或。
7. **基础科学研究**:为基本粒子物理实验提供高能碰撞,帮助研究粒子特性和宇宙基本法则。
总之,束源炉是一个重要的研究和应用工具,为科学研究和技术发展提供了基础支持。
热蒸发手套箱一体机主要用于以下几个方面:
1. **材料科学研究**:用于薄膜材料的沉积,广泛应用于半导体、光电子及太阳能电池等领域。
2. **光学涂层**:可用于光学元件的镀膜,提高其反射率和透光率。
3. **表面处理**:适用于金属、塑料及玻璃等材料的表面修饰,改善其性能和外观。
4. **化学实验**:在无尘和惰性气体环境中进行化学反应和合成,避免样品氧化或污染。
5. **生物医学**:在生物材料制备和细胞培养等方面,也可以利用该设备进行相关实验。
6. **制造**:在、及高科技产品的制造中,确保高纯度和高性能的材料沉积。
热蒸发手套箱一体机通过创造一个控制的环境,提高了实验的性和安全性,适用于研究和工业应用。
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