真空腔室Ф246×228mm，304优质不锈钢
分子泵进口Pfeiffer分子泵
前级泵机械泵，北仪优成
真空规全量程真空规，上海玉川
溅射靶Ф2英寸永磁靶2支（含靶挡板）
溅射电源500W直流电源1台，300W射频电源1台
流量计20sccm/50sccm进口WARWICK
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
旁路阀GDC-25b电磁挡板阀1套
限流阀DN63mm一套
充气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
放气阀Φ6mm，电磁截止阀1套
基片台Ф100mm，高度：60～120mm可调，旋转：0-20r/min可调，可加热至300℃
膜厚监控仪进口Inficon SQM-160单水冷探头，精度0.1Å（选配）
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35法兰一个
备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
溅射靶是一种用于材料科学和薄膜沉积的设备。其工作原理是利用高能粒子轰击靶材，使得靶材表面原子或分子飞出并沉积到基底上，从而形成薄膜。这种技术在半导体、光电器件和其他电子材料的制造中得到了广泛应用。
溅射靶的种类有很多，包括直流溅射、射频溅射和脉冲磁控溅射等，不同类型的溅射靶适用于不同的材料和应用。整体来说，溅射技术具有沉积速率高、膜层均匀性好、适用材料广泛等优点，但也需要控制参数如气体流量、压力和功率等，以获得满意的薄膜质量。
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靶材通常是在物理、化学和材料科学等领域中使用的一种材料，主要具有以下功能：
1. **靶向作用**：在粒子物理实验中，靶材可用于吸收入射粒子并产生可观测的反应，如在粒子加速器中用作靶。
2. **材料沉积**：在薄膜沉积技术中，靶材用于将材料蒸发或溅射到基底上，形成薄膜。这在电子器件、光学涂层等应用中重要。
3. **反应介质**：在化学反应中，靶材可以作为反应物，产生相应的化学反应或物理变化。
4. **能量传输**：靶材能够接收入射粒子的能量并将其转化为其他形式的能量，或以其他方式传递能量。
5. **示踪和检测**：在放射性同位素研究中，靶材可以用作示踪剂，帮助检测和分析现象。
总之，靶材在科学研究和工业应用中扮演着重要的角色，其具体功能根据应用场景的不同而有所差异。
样品台，通常用于实验室、工业生产和研究等领域，具有以下几个特点：
1. **稳定性**：样品台通常设计得稳定，以确保在进行实验或观察时，样品受到外部震动或干扰的影响。
2. **调整功能**：许多样品台具有高度可调节性，允许用户根据需要调整样品的位置和角度，以便于观察和测量。
3. **易清洁性**：样品台通常采用易于清洗的材料，能够防止样品的污染，同时在使用过程中保持卫生。
4. **多功能性**：某些样品台配备了不同的附件和配件，支持实验需求，例如光学显微镜、测量仪器等。
5. **适应性强**：样品台的设计往往可以根据不同类型的样品（如液体、固体、粉末等）进行调整，以适应不同的实验需求。
6. **材料选用**：样品台通常采用耐腐蚀、耐高温或其他特殊材料，以适应不同实验环境。
7. **标记系统**：许多样品台上会有标记或者刻度，使用户能够定位样品位置。
8. **光学性能**：在光学实验中，样品台可能会考虑透光性和反射性，以确保观测效果的清晰度。
这些特点使得样品台在不同领域的应用中显得尤为重要，能够提高实验的性和效率。
PVD（物相沉积）镀膜机是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备。其主要功能包括：
1. **薄膜沉积**：通过物相沉积方法，PVD镀膜机可以在基材表面沉积金属、合金、氧化物、氮化物等薄膜材料，用于改善表面性能。
2. **表面改性**：通过镀膜，可以提高基材的耐磨性、耐腐蚀性、抗氧化性等，延长材料的使用寿命。
3. **功能涂层**：PVD镀膜可以赋予材料特定的功能，例如光学性能（反射、透射）、导电性能、热导性等，适用于电子、光学等行业。
4. **装饰效果**：在一些应用中，PVD镀膜机可用于实现装饰性涂层，提高产品的美观性和附加值。
5. **薄膜**：PVD技术能够在较低的温度下沉积量的薄膜，适合用于一些热敏材料的表面处理。
6. **环境友好**：相比于化学镀膜方法，PVD过程通常不需要使用有毒化学物质，减小了对环境的影响。
7. **可控性强**：PVD镀膜机可以控制膜厚、沉积速率等参数，实现高重复性和一致性的薄膜性能。
总之，PVD镀膜机在现代制造业中发挥着重要作用，广泛应用于电子、光学、汽车、等多个领域。
离子溅射仪是一种用于材料表面分析和处理的设备，主要功能包括：
1. **材料沉积**：可以用于在基材表面上沉积薄膜，常见于半导体、光电子器件和表面涂层的制造。
2. **表面分析**：通过溅射过程，可以分析材料的成分和结构，常用于质谱分析和表面分析技术，如时间飞行质谱（TOF-MS）。
3. **清洁和去除涂层**：可以去除材料表面的污染物或旧涂层，为后续处理做好准备。
4. **再结晶和表面改性**：可以通过离子轰击改变材料的表面状态，如增加薄膜的粘附力、改善光学性能等。
5. **刻蚀**：在微电子工艺中，用于刻蚀特定区域，形成所需的图案和结构。
6. **离子 implantation**：将离子注入材料中，以改变其电学、光学或机械性质。
离子溅射仪在材料科学、微电子、纳米技术等领域有着广泛的应用。
磁控溅射镀膜机是一种常见的薄膜沉积设备，广泛应用于多个领域。其适用范围主要包括：
1. **光电器件**：用于制造太阳能电池、OLED显示屏、LED等光电元件的导电膜和荧光膜。
2. **半导体器件**：在集成电路生产中，磁控溅射可以用于沉积金属、氧化物和氮化物薄膜，这些薄膜用于互连、绝缘和掺杂等功能。
3. **光学涂层**：生产抗反射 coating、反射镜涂层和其他光学薄膜，广泛应用于镜头、光学仪器和显示器上。
4. **硬涂层**：用于制造硬度高、耐磨损的薄膜，在工具、模具等表面进行保护。
5. **磁性材料**：在数据存储和磁性传感器中，沉积磁性薄膜以实现特定的磁性能。
6. **装饰涂层**：在家居用品、电子产品外壳等表面进行装饰性镀膜。
7. **生物医学**：在生物传感器和器械表面形成或生物相容性薄膜。
由于其良好的膜质量和均匀性，磁控溅射镀膜机在材料科学、纳米科技等研究领域也有广泛应用。
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