真空腔室Ф246×260mm,304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源(兼容金属与**蒸发)3组,可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台,供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm,具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于光学、电子、材料科学等领域。其基本原理是通过加热材料,使其蒸发成气态,然后在基底表面凝结形成薄膜。热蒸发镀膜机通常由以下几个主要部分组成:
1. **真空腔体**:提供低压环境,以减少气体分子对蒸发材料和沉积薄膜的干扰。
2. **加热源**:通常使用电阻加热丝或电子束加热来加热蒸发材料,达到其蒸发温度。
3. **蒸发源**:放置待蒸发材料的容器,可以是铸坯、靶材等。
4. **基底夹持系统**:用于固定和加热待涂覆的基底,一般位于蒸发源的上方。
5. **监控系统**:用于监测沉积速度和膜厚,常用的技术有石英晶体振荡器或光学膜厚测量。
6. **冷却系统**:在一些情况下,可能需要冷却基底以改善膜的品质。
热蒸发镀膜机的优点包括沉积速度快、膜层均匀、膜的纯度高等,但也有局限性,如膜的附着力和应力问题。
在选购和使用热蒸发镀膜机时,需要根据具体的应用需求,例如膜材料、沉积速率、膜厚度及基底材料等制定相应的方案。
热蒸发镀膜机是一种用于物相沉积(PVD)技术的设备,主要功能包括:
1. **膜层制备**:通过加热蒸发材料,使其转变为气态,并在基材表面沉积形成薄膜。可以用于制备金属、绝缘材料或半导体薄膜。
2. **膜层厚度控制**:通过控制蒸发率和沉积时间,可以调节膜层的厚度。
3. **材料种类选择**:可以使用多种材料进行蒸发,如金、银、铝、氧化物等,以实现不同的光学或电气性能。
4. **真空环境控制**:在真空环境中进行镀膜,降低空气中的杂质对膜层质量的影响,提高膜层的致密性和均匀性。
5. **基材适应性**:可用于多种基材的镀膜,包括玻璃、塑料、金属等。
6. **功能性薄膜的制备**:可以制备不同功能的薄膜,如反射膜、抗反射膜、导电膜、光电膜等,广泛应用于光电子器件、显示器、传感器等领域。
7. **多层膜制备**:可实现多层膜的叠加,制造复杂结构以满足特定的光学或电气特性。
这些功能使得热蒸发镀膜机在材料科学、电子、光学等领域有着广泛的应用。
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束源炉是一种特殊类型的核反应堆,主要用于研究和医学应用。它的特点包括:
1. **中子源**:束源炉能够产生大量的中子,这些中子可用于材料研究、核检测、医学成像及等领域。
2. **小型化**:与传统的核反应堆相比,束源炉通常较小,设计上更为紧凑,适合于实验室或等场所。
3. **低功率运行**:束源炉的运行功率相对较低,一般在几千瓦到几兆瓦之间,适合用于中子辐照实验。
4. **安全性**:由于功率较低,束源炉的设计通常具有更高的安全性,反应堆的重要系统和结构更易于控制。
5. **多用途**:除了用于基础科学研究外,束源炉还可用于材料分析、核医学以及教育等多个领域,显示出其多功能性。
6. **易于安装与维护**:束源炉一般设计得更加便捷,方便安装和日常维护。
7. **放射性废物处理**:由于其低功率的特性,所产生的放射性废物相对较少,处理相对简单。
这些特点使得束源炉在研究和应用中发挥了重要的作用。
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蒸发舟(或称为蒸发小舟)在化学和材料科学中主要用于薄膜的制备和物质的蒸发沉积。它的基本功能包括:
1. **材料蒸发**:蒸发舟可以将固态材料加热到其蒸发温度,使其转变为气态,通过真空或惰性气体环境将蒸发出的颗粒沉积在基材上。
2. **薄膜沉积**:通过控制蒸发过程可以在基材上形成均匀、薄的薄膜,这对于制作电子器件、光学涂层等重要。
3. **材料选择性**:蒸发舟可以用于多种材料(如金属、氧化物、聚合物等)的蒸发,适应不同的应用需求。
4. **控制**:通过调整加热功率和蒸发时间,可以控制沉积的厚度和质量。
5. **提高纯度**:在真空环境中蒸发,可以减少杂质及氧化反应,得到较高纯度的沉积材料。
6. **应用广泛**:蒸发舟被广泛应用于半导体制造、光学器件、太阳能电池、传感器等领域。
通过这些功能,蒸发舟在材料的制备和研究中起到了关键的作用。
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小型热蒸发镀膜机是一种常见的实验室设备,主要用于材料表面的薄膜沉积,其特点包括:
1. **小巧便携**:设计紧凑,适合实验室、研究机构及小规模生产等场所使用,便于搬运和安装。
2. **操作简便**:通常配备直观的操作界面和控制系统,便于用户操作和调节参数。
3. **蒸发效率高**:利用热蒸发原理,能够在较短时间内实现率的镀膜过程。
4. **适用材料广泛**:可以用于多种金属及某些非金属材料的蒸发镀膜,适应性强。
5. **膜层质量好**:能够沉积出均匀、致密的薄膜,满足高要求的光学、电气性能。
6. **真空环境**:配置高真空系统,可以有效防止污染,提高膜层纯度。
7. **温度控制**:具备的温度控制功能,能够调节蒸发源的温度,以优化膜层性能。
8. **成本相对较低**:相比于大型镀膜设备,投资成本较低,适合预算有限的单位。
9. **多样化的附加功能**:部分设备还可以选配如厚度监测、靶材更换等功能,以提高应用的灵活性。
10. **节能环保**:现代设备在设计上往往考虑能耗,运行过程中的能量利用效率较高。
这些特点使得小型热蒸发镀膜机在科学研究、新材料开发和小规模生产中拥有广泛的应用前景。
束源炉(也称为束流炉或束流反应堆)是一种利用加速器产生的粒子束进行核反应的设备。它主要用于以下几个领域:
1. **基础科学研究**:束源炉可用于粒子物理学和核物理学的基础研究,探索粒子的基本性质和相互作用。
2. **材料科学**:束源炉可以用于开发和测试新材料,尤其是在较端条件下(如高温、高压)下的材料性能。
3. **应用**:束源炉在医学成像、(如质子)等领域具有重要应用。
4. **核废料处理**:束源炉可以用于研究和开发核废料处置和转化技术,降低其长期放射性。
5. **新型能源开发**:在聚变能源研究中,束源炉也被应用于研究高温等离子体的行为,以探索可持续的能源解决方案。
束源炉的适用范围不断拓展,随着技术进步和研究的发展,可能会有新的应用领域出现。
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